鹵素試驗機光譜儀原理

X熒光光譜儀主要由激發源（X射線管），探測系統和軟件系統構成。

X射線管產生X射線（一次X射線），來激發被測樣品。受激發的樣品中每一種元素會放射出二次X射線（又叫X熒光），不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長特性。探測系統測量放射出來的二次X射線的能量計數量或者波長，并且轉換成數字脈沖信號，軟件將探測系統所收集到的信息轉換成樣品中各種元素的種類及含量。

X射線熒光光譜儀，簡稱XRF，是一種物理的元素分析方法，具有快速，無損，多種元素同時分析，操作簡單，使用成本低等特殊技術優勢，在電子，電器，珠寶，玩具，服裝，皮革，食品，建材，冶金，地礦，塑料，石油，化工，醫藥等行業發揮著重大的作用。

鹵素試驗機應用行業

科研院所，學校，檢測機構；RoHS1.0,RoHS2.0,鹵素等環保行業；材料成分分析行業；電鍍鍍層厚度檢測行業；黃金，貴金屬行業

RoHS1.0和RoHS2.0具體的限定物質和限定值以及檢測儀器

	元素符號	中文名稱	限定值	檢測儀器
RoHS 1.0	Pb	鉛	0.1%（1000ppm）	XRF
	Hg	汞	0.1%（1000ppm）	XRF
	Cd	鎘	0.1%（1000ppm）	XRF
	Cr(VI)	六價鉻	0.1%（1000ppm）	XRF+UV
	PBB	多溴聯苯	0.1%（1000ppm）	XRF+GCMS
	PBDE	多溴聯苯醚	0.1%（1000ppm）	XRF+GCMS
RoHS2.0新增加有機限定物	DIBP	領苯二甲酸二異丁酯	0.1%（1000ppm）	GCMS或LC
	DEHP	領苯二甲酸（2-乙基）己酯	0.1%（1000ppm）	GCMS或LC
	DBP	領苯二甲酸二丁酯	0.1%（1000ppm）	GCMS或LC
	BBP	領苯二甲酸丁芐酯	0.1%（1000ppm）	GCMS或LC
無鹵指令（限定鹵素氯和溴）	Cl	氯	0.09%（900ppm）	XRF
	Br	溴	0.09%（900ppm）	XRF
	Cl+Br	氯和溴總量	0.09%（900ppm）	XRF

KB-XRF-W7 RoHS檢測儀

專業RoHS指令有害元素和鹵素快速，無損檢測；一體機設計，內置工業計算機和IPAD觸摸屏，無需另配電腦和顯示器。

標準配置：

1. 美國*電致冷Si-PINtanceqi

2. X射線光管模塊

3. 高低壓電源模塊

4. 多道分析模塊

5. 信噪比增強模塊

6. 集成IPAD觸摸屏

7. RoHS鹵素軟件系統

技術參數：

測試范圍	RoHS, 鹵素（硫S-鈾U之間的元素）
可測試樣品的種類	固體，液體，粉末
檢出限	≤2ppm；精度：±0.05%
測試時間	30-300s（可以任意調節）
攝像定位系統	800萬真像素高清定位系統
X射線光管使用壽命	＞20000小時
探測器	美國Amptek公司*電致冷Si-PIN探測器；分辨率 145ev±5ev
高壓電源	0-50kev,0-2mA 50w
準直濾光系統	X射線光斑大小直徑：φ1mm,φ3mm,φ5mm； 9種復合濾光系統
工作環境溫/濕度	溫度15-30℃ 濕度 ≤75%（不結露）
輸入電源	AC220V±15% 50Hz
額定功率	150W 重量 33kg
儀器尺寸	670400330mm
測試樣品腔尺寸	20026080mm

KB-XRF-W8 RoHS檢測儀

專業RoHS指令有害元素和鹵素快速，無損檢測；一體機設計，內置工業計算機和IPAD觸摸屏，無需另配電腦和顯示器。

標準配置：

1. 美國*電致冷SDD探測器

2.大功率X射線光管模塊

3.高低壓電源模塊

4. 多道分析模塊

5.信噪比增強模塊

6.集成高性能工業計算機

7.集成IPAD觸摸屏

8.RoHS鹵素軟件系統

技術參數：

測試范圍	鈉Na-鈾U之間的元素
可測試樣品的種類	固體，液體，粉末(任何材質的樣品）
檢出限	≤1ppm；精度：±0.03%
測試時間	30-300s（可以任意調節）
攝像定位系統	1200萬真像素高清定位系統
X射線光管使用壽命	＞30000小時
探測器	美國Amptek公司*電致冷SDD探測器；分辨率 125ev±5ev
高壓電源	0-50kev,0-2mA 100w
準直濾光系統	X射線光斑大小直徑：φ1mm,φ3mm,φ5mm； 12種復合濾光系統
工作環境溫/濕度	溫度15-30℃ 濕度 ≤75%（不結露）
輸入電源	AC220V±15% 50Hz
額定功率	180W 重量 33kg
儀器尺寸	670400330mm
測試樣品腔尺寸	20026080mm

產品中心

鹵素試驗機波散型XRF

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